首次！中国芯片领域取得新突破 改进光刻胶缺点：提升7nm及以下先进制程良率

据国内媒体报道称，我国芯片领域取得新突破，具体来说是在光刻胶领域。北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环...