中国国产DUV光刻机迎来里程碑式进步，套刻≤8nm
9月15日消息，工业和信息化部于9月9日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》通知，在文件列表包含国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光...
DUV光刻机遭进一步限制 中国仍有破局之路
集微网消息，针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向，知名行业分析师DylanPatel认为，三方所达成的合作意向依然非常初步，本质上仍是口头协议，其中存在不少漏洞。P...
- 1
